バッチ式洗浄装置(Batch Cleaning)

対応洗浄方式 | 有機洗浄/エッチング/レジスト除去 |
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ウェハ搬送方式 | カセットタイプ/カセットレスタイプ/ドラムタイプ |
搬送カセット単位 | 最小1カセット~最大5カセット |
対応口径 | φ150mm/φ200mm/φ300mm |
液流 カセットレスタイプのみ |
特殊槽の形状+整流板による理想的なラミナフローを実現。 |
気流 カセットレスタイプのみ |
機構部に特殊局所排気を設け、装置内のクリーン化を徹底。 |
乾燥 カセットレスタイプのみ |
ベーパー式/スピン式/温水引き上げ式 |
その他 | FA−AGV(自動搬送システム)対応可能 SECS・GEM通信対応可能 |
枚葉式洗浄装置(Single Wafer Processing Cleaning)

対応洗浄方式 | RCA洗浄/レジスト除去/各種エッチング/各種物理洗浄 |
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対応口径 | φ100mm~φ300mm |
ハンドリング | バキュームチャック/エッジチャック |
主な機能 | 薬液処理/荷重可変型ペンブラシ機構/二流体洗浄/超音波洗浄 |
その他 | 各種機構は仕様にあわせ変更可能 |
手動洗浄機(Manual Cleaning)
ウェハー生産用の各種半導体製造装置も提供致します。
詳細について、下記のPDFをご覧ください。